日本四日市--(美国商业资讯)--东芝公司(TOKYO:6502)今日宣布,东芝位于公司主要内存生产基地日本三重县四日市生产基地的最先进半导体制造新工厂——6号晶圆厂(Fab 6)和新研发中心——内存研发中心已正式开工建设。
这份智能新闻稿包含多媒体内容。完整新闻稿可在以下网址查阅:http://www.businesswire.com/news/home/20170208006381/en/
6号晶圆厂将致力于生产东芝创新的3D闪存1——BiCS FLASH™。与5号晶圆厂(Fab 5)一样,建设工程将分两阶段进行,可根据市场趋势优化投资步伐。预计工程第一阶段将于2018年夏季竣工。东芝将密切监测市场,确定装机产能、生产目标和生产进度。
东芝还将建设一个内存研发中心,该内存研发中心毗邻新晶圆厂,预计将于2017年12月竣工。该中心将推进BiCS FLASH™和新内存的研发。
东芝决心迎合市场趋势,及时扩大BiCS FLASH™生产,提高公司内存业务竞争力,同时巩固公司在内存业务创新领域的领导地位。
* BiCS FLASH是东芝公司的商标
关于东芝
原文版本可在businesswire.com上查阅:http://www.businesswire.com/news/home/20170208006381/en/
免责声明:本公告之原文版本乃官方授权版本。译文仅供方便了解之用,烦请参照原文,原文版本乃唯一具法律效力之版本。
联系方式:
东芝公司 四日市生产基地6号晶圆厂效果图(图示:美国商业资讯) 四日市生产基地内存研发中心效果图(图示:美国商业资讯) |
东芝位于日本四日市的6号晶圆厂和内存研发中心正式开工建设
文章导读:日本四日市--(美国商业资讯)--东芝公司(TOKYO:6502)今日宣布,东芝位于公司主要内存生产基地日本三重县四日市生产基地的最先进半导体制造新工
- 东芝扩大符合eMMC 5.1标准的工业级嵌入式NAND闪存产品阵容 2016-12-28
- 东芝扩大面向汽车应用的嵌入式NAND闪存的产品阵容 2016-12-28
- 东芝面向移动设备高速接口的新型低电容瞬态抑制二极管提供业界领先的保护性能2017-01-12
- 东芝面向快速充电器推出支持4.5V逻辑电平驱动的100V N沟道功率MOSFET2017-01-12
- 东芝推出具备更高正向浪涌电流的第二代650V碳化硅肖特基势垒二极管2017-01-13